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在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中,三氟甲烷用在二氧化硅及氮化硅的等離子蝕刻(plasma etching)中。三氟甲烷也是一種制冷劑,名稱為R-23或HFC-23,因為其不含氯,不會造成臭氧層破洞,有時會用來會取代造成臭氧層破洞的三氟氯甲烷(cfc-13)
中文名稱:三氟甲烷
中文別名:氟仿;氟里昂-23;HFC-23滅火劑
英文名稱:trifluoromethane
英文別名:Carbon trifluoride; fluoroform; freon 23; Halocarbon 23; R-23;
分子式:CHF3
分子量:70.0138
外觀與性狀:無色無臭氣體。
產(chǎn)品用途
在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中,三氟甲烷用在二氧化硅及氮化硅的等離子蝕刻(plasma etching)中。三氟甲烷也是一種制冷劑,名稱為R-23或HFC-23,因為其不含氯,不會造成臭氧層破洞,有時會用來會取代造成臭氧層破洞的三氟氯甲烷(cfc-13)。
三氟甲烷因為其低毒性、不容易反應(yīng)及高密度,可用作滅火劑使用。此時常使用杜邦的商標名稱FE-13代表三氟甲烷。
注意事項
操作注意事項:密閉操作,全面通風。操作人員必須經(jīng)過專門培訓,嚴格遵守操作規(guī)程。遠離易燃、可燃物。防止氣體泄漏到工作場所空氣中。避免與氧化劑接觸。搬運時輕裝輕卸,防止鋼瓶及附件破損。配備泄漏應(yīng)急處理設(shè)備。
儲存注意事項:儲存于陰涼、通風的庫房。遠離火種、熱源。庫溫不宜超過30℃。應(yīng)與氧化劑、易(可)燃物分開存放,切忌混儲。儲區(qū)應(yīng)備有泄漏應(yīng)急處理設(shè)備。
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